三氯矽烷;
SiCl2;dihydridodichlorosilane;dichloro-silane;Silane,dichloro;dichloromonosilane;
外觀與性狀:
無色氣體
密度:
1,22 g/cm3
沸點(diǎn):
8.3 °C(lit.)
熔點(diǎn):
?122 °C(lit.)
閃點(diǎn):
-37°C
水溶解性:
decomposes
穩(wěn)定性:
Stable. Extremely flammable; note very wide explosion limits. Reacts violently with water, alcohols, strong oxidizing agents, bases.
蒸汽密度:
3.5 (vs air)
蒸汽壓:
1254 mm Hg ( 20 °C)
RTECS號:
VV3050000
安全說明:
S26-S36/37/39-S45
危險(xiǎn)類別碼:
R12; R14; R23; R34
WGK Germany:
1
危險(xiǎn)品運(yùn)輸編碼:
UN 2189 2.3
危險(xiǎn)類別:
2.3
危險(xiǎn)品標(biāo)志:
F+; T
1.將硅粉和氯化氫按適當(dāng)比例進(jìn)行反應(yīng),生成二氯二氫硅,經(jīng)蒸餾分離三氯氫硅,把得到的二氯二氫硅進(jìn)行精制,制得電子級高純二氯二氫硅成品。2.將27.1g SiHCl3與3.7g Bu3N在常壓下回流40h,即得到產(chǎn)品。產(chǎn)物用置于干冰浴上的接收器收集。產(chǎn)率可達(dá)到7.3%。3.將硅粉和氯化氫按適當(dāng)比例進(jìn)行反應(yīng),生成二氯二氫硅,經(jīng)蒸餾分離三氯氫硅,將得到的二氯二氫硅進(jìn)行精制,制得電子級高純二氯二氫硅成品。其反應(yīng)式如下:
1.用于制造半導(dǎo)體,尤其是在外延法工藝中作為硅源。二氯二氫硅主要用于多晶硅外延生長以及化學(xué)氣相沉積二氧化硅和氮化硅。它的硅含量比三氯氫硅和四氯化硅高,二氯二氫硅沉積硅更有效,且淀積溫度比其他氯硅烷低。采用二氯二氫硅在降低溫度下沉積厚層所需時(shí)間大大低于采用硅烷所需時(shí)間。由于二氯二氫硅的沉積速率與采用其他氯硅烷相比對溫度敏感性小,因此可以采用調(diào)節(jié)氫氣流中二氯二氫硅濃度的方法來控制沉積速率,而且不會出現(xiàn)鼓泡所帶來的不準(zhǔn)確性和機(jī)械問題。2.用于甲硅烷基化劑,及合成硅的有機(jī)化合物。
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